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APP STORE 400层工艺受阻! SK海力士被动年底量产375层NAND

发布日期:2026-06-12 05:53    点击次数:179

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快科技6月11日音尘,据报谈,SK海力士已完成375层NAND闪存的量产考据,正将清州M15工场的原产线从176/238/321层升级改良为375层居品产线,场合于2026年底前杀青量产。

该居品当先估计为400层架构,受超高层数堆叠的量产工艺胁制,最终被动转念为375层。业内东谈主士清楚,后续将递次推出480层、604层居品。

为弥补层数折损,375层居品初度在字线金属栅极中以钼(Mo)部分替代传统钨(W)材料。

这是由于超高层堆叠导致钨基字线电阻激增、信号延伸,AG·真人(官方)网址且扞拒接济层占用堆叠空间。钼以更低电阻率和无扞拒层上风,同步晋升NAND闪存的读写性能与存储密度。

钼先行者体常温下为固态,对制程管控条件极高。SK海力士评估了泛林集团和东京电子的建设后,最终采选后者的炉式千里积系统。

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该决策一次可不休约100片晶圆,在建设本钱、局势占用及物料破钞上更具上风。

需要指出的是,三星电子已于2024年4月量产第九代286层V-NAND时,就将钼期骗于金属布线措施。

三星估计中的第十代400层以上NAND亦将于2026年下半年推出,钼材料的期骗范围正握续扩大。

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